Многофункциональная установка модификации поверхности компании CNNC Tongchuang отгружена и передана заказчику
Сканировать для отправки
Данная многофункциональная установка модификации поверхности оснащена высокоэнергетическим источником металлических ионов, источником газовых ионов, а также сопутствующими источниками питания одноступенчатого импульсного магнетрона и источником питания импульсного смещения с наложением постоянного тока, разработанными на основе собственных интеллектуальных прав CNNC Tongchuang. Установка позволяет проводить такие технологические операции, как ионно-имплантационная модификация поверхности, легирование металлической поверхности, металлизация неметаллической поверхности, вспомогательный нагрев и др., а также одновременно обеспечивать очистку источником газовых ионов и вспомогательное осаждение. Благодаря источнику питания импульсного смещения с наложением постоянного тока реализуется функция направленной плазмы, что позволяет повысить эффективность осаждения и одновременно эффективно подавлять аномальные дуговые разряды, улучшая качество плёночного покрытия.
Успешная поставка данного оборудования является очередным практическим применением плазменной технологии CNNC Tongchuang в сценариях гражданского оборудования, что дополнительно обогащает портфель разработок и производственных достижений компании в области специализированного оборудования для модификации поверхности, а также закладывает основу для продвижения на рынок последующих моделей продукции.
Отказ от ответственности: материалы, перепубликованные из партнерских медиа, организаций или других сайтов, предоставляются только для справки и информирования. Это не означает одобрения взглядов или подтверждения точности. Свяжитесь с нами для исправлений или вопросов о правах.